Production of semiconductive roll



(57)【要約】 【目的】 表面抵抗及び体積抵抗のばらつきが少なく安 定な品質を有する半導電性ロールを工業的に有利に製造 して得る。 【構成】 (A)下記平均組成式(1)で示されるオルガノポリシロキサン 100重量部 R SiO (4-n)/2 …(1) (但し、式中Rは同一又は異種の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、nは 1.98〜2.02の正数である。) (B)導電性材料 3〜300重量部 (C)硬化剤 0.1〜5重量部 を含有してなるシリコーンゴム組成物を芯金表面に押し 出し圧力が70kgf/cm 2 以下で成形・加硫して半 導電性ロール状シリコーンゴム層を形成することを特徴 とする半導電性ロールの製造方法。
PURPOSE: To industrially advantageously produce a semiconductive roll having low dispersion of surface resistivity and volume resistivity and therefore stable in quality. CONSTITUTION: This production process comprises extruding a silicone rubber composition comprising 100 pts.wt. organopolysiloxane represented by the average compositional formula: RSiO (4-n)/2 (wherein Rs, which may be the same or different from each other, are (un)substituted monovalent hydrocarbons; and (n) is a positive number of 1.98-2.02), 3-300 pts.wt. conductive material and 0.1-5 pts.wt. curing agent, and molding and vulcanizing the extrudate at a pressure of 70kgf/cm 2 or below against the surface of an a core metal to form a semiconductive roll-like silicone rubber layer. COPYRIGHT: (C)1996,JPO




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